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摘要：測(cè)量下限是光散射顆粒測(cè)試技術(shù)的重要指標(biāo)。本文對(duì)顆粒散射光的光強(qiáng)分布進(jìn)行了細(xì)致比較，對(duì)Mie散射向Rayleigh散射趨近的情況進(jìn)行了分析，本文通過對(duì)Mie散射理論的深入研究和計(jì)算機(jī)模擬證實(shí)，對(duì)于氦氖激光，當(dāng)測(cè)量粒徑在0.2微米以下，Mie散射的解迅速趨近于Rayleigh散射的解，其光強(qiáng)分布函數(shù)變得簡(jiǎn)單，特別是在50納米以下，我們無法用通常的靜態(tài)光散射法從光強(qiáng)空間分布函數(shù)中提取足夠的信息來計(jì)算顆粒直徑。本文的結(jié)果對(duì)各種光散射顆粒測(cè)試設(shè)備的研究有參考價(jià)值。關(guān)鍵詞：顆粒；粒...